中微公司｜公司基础研究 V1.0
研究截至2026-09-13；发行人ISSUER-CN-688012；证券CN:688012；主题：半导体/Edge AI。公司层按版本维护。
F为披露事实，O为观察，J为研究判断，C为计算。以下业务解释来自发行人披露并结合研究判断；竞品选择与优势强弱均属J，未冒充完整独立客户尽调。
公司怎样创造客户价值
公司向晶圆制造客户提供刻蚀、薄膜沉积及MOCVD等设备，帮助完成微细结构加工。设备能进入量产线比实验室参数更有意义，后续客户采购还受产能建设、工艺需求和服务影响。
产品、客户与收入机制
| 产品或业务 | 谁使用/为何购买 | 利润与现金约束 |
|---|---|---|
| 等离子刻蚀 | 服务逻辑和存储等工序 | 已有工程与客户积累；不同材料和深宽比工序仍需分别验证 |
| 薄膜沉积 | 扩展可覆盖的制造工序 | 研发投入前置，新工序不能直接享有刻蚀相同份额 |
| MOCVD及泛半导体 | 覆盖LED等相关设备需求 | 需求周期与高端逻辑设备不同，不能以统一AI倍数估值 |
分战场竞争与替代
刻蚀对照Lam、TEL及北方对应产品，沉积按AMAT、TEL等工序比较。团队与客户验证构成高门槛，但关键部件供应、客户资本支出和新工序商务条件仍能削弱价值捕获。
领导层、组织与经营能力
尹志尧及国际设备背景团队是具体能力基础，研发人员占比较高。成功的研发与量产经验应提升新工序先验；资本化研发、核心人员梯队及多产品组织效率仍需审查，不能用资历代替经营回报。
第二曲线与已经经历的扩张
刻蚀向薄膜等扩展是相邻但非无风险的第二曲线。可按客户验证和工程进展判断概率，不要求2036精确分部表；研发投入不能既资本化减轻利润费用又在估值时完全忽略现金支出。
业务底座与基期证据
F：H1收入66.91亿元，同比+34.89%；归母28.25亿元、扣非11.23亿元、OCF6.85亿元；研发投入20.41亿元，其中资本化6.89亿元。
长期假设与反证
| 假设ID | 长期判断J | 下一项有用证据/触发 |
|---|---|---|
| H-CN-688012-H01 | 刻蚀量产技术和客户关系可跨代延续 | 工序与客户分别标明量产/验证阶段 |
| H-CN-688012-H02 | 薄膜等新工序转成重复订单 | 费用化和资本化研发合计观察 |
| H-CN-688012-H03 | 研发现金与未来每股收益形成可接受关系 | 高研发持续却无重复订单或外部部件受限 |
在原股票池中的位置
范围依据：原主题核心/准核心研究公司。原核心表示价格无关的优先研究对象，不代表本轮自动获得买入许可。原S1—S4与L1—L7资料继续作为历史研究依据，本次重新检查产品/客户、竞争、组织及新业务逻辑，不将概念相关性替代可归属价值。
未来工序成功率与竞争优劣非公开完整数据，34倍是可被新证据推翻的研究尺度，不是模型计算出的唯一准确倍数。
什么情况下更新公司基础版本
出现重大产品架构替代、关键领导与治理变化、并购/资产出售改变业务边界、第二曲线形成或失败时更新底稿，并重审采用该底稿的季度估值。单纯行情变化只更新机会观察；同日首次建底稿与季报不伪造历史概率变化。